產(chǎn)品名稱:GDZT-50-200-80 加熱冷卻循環(huán)機
更新時間:2023-11-10
GDZT-50-200-80 加熱冷卻循環(huán)機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-50-200-80 加熱冷卻循環(huán)機的詳細資料
GDZT-50-200-80 加熱冷卻循環(huán)機能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置,工作范圍寬廣,用于制藥、化工、生物等行業(yè),為反應釜、槽等提供熱源和冷源,也可用于其他設備的加熱和冷卻。
GDZT-50-200-80 加熱冷卻循環(huán)機特點:
●分3個系統(tǒng):制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng),三個系統(tǒng)可連續(xù)使用,也可分別單獨使用。
●快速加熱和冷卻,可連續(xù)升降溫。
●溫度控制范圍寬,全程不需要換導熱介質(zhì),導熱介質(zhì)消耗少。
●全封閉循環(huán)系統(tǒng),高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化,低溫下不易吸入空氣中水分,可延長導熱流體的使用壽命。
●高溫冷卻、制冷功能,可以從高溫直接降溫(如可從200℃直接降溫)。
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器,占用空間小,換熱效率高。
●液位顯示功能,隨時監(jiān)控液位,避免缺液。
●高溫切斷、急停、延時、漏電、過流電、過熱等多重保護功能,充分保證使用安全。
●冷凝、預熱方式為風冷,節(jié)約水資源。
典型應用:
●化工、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制。
●攪拌罐的溫度控制。
●高壓反應釜的溫度控制。
●材料測試中的應用。
●微反應器技術領域的放大工藝過程的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。
●大型恒溫控制系統(tǒng)。
●小型恒溫控制系統(tǒng)。
●半導體設備的溫度控制。
●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
?技術參數(shù):
型號 | GDZT-50-80-200G |
儲液槽容積(L) | 10 |
空載zui低溫度(℃) | -80 |
使用溫度范圍(℃) | -80~200 |
環(huán)境溫度(℃) | ≤25 |
環(huán)境相對濕度(%) | ≤60 |
電源 | 380V±10% 50Hz |
溫度控制 | 顯示方式 | 數(shù)字式 |
控溫精度(℃) | ±1 |
安全保護 | 延時、過電流、過熱 |
不同制冷溫度的制冷量(W) | 200℃ | 6600 |
10℃ | 8200 |
-10℃ | 6200 |
-20℃ | 4500 |
-40℃ | 3400 |
-60℃ | 3120 |
-80℃ | 1030 |
制冷機組 | 功率(W) | 14820 |
zui大運行電流(A) | 39 |
制冷劑 | R404A/R23 |
加熱功率 | 6000W |
循環(huán)泵功率(W) | 280 |
循環(huán)泵流量(L/min) | 30 |
循環(huán)泵揚程(m) | 12 |
循環(huán)接口 | 絲口連接:1/2吋,不銹鋼閥門 |
儲液槽 | 1Cr18Ni9Ti |
整機尺寸(mm) | 720×573×1280 |
整機重量(kg) | 320 |